بررسی اثرات دانسیته جریان و دمای حمام آبکاری پالسی بر نانوساختار پوشش دی اکسید سرب روی زیرلایه تیتانیمی

در این تحقیق پوشش الکتروکاتالیتیک دی اکسید سرب روی زیرلایه ti/sno2 با استفاده از تکنیک های آبکاری جریان مستقیم و آبکاری جریان پالسی از حمام نیترات سرب بدست آمد. به منظور ایجاد پوششی با بیشترین زبری سطح،کوچک ترین توزیع اندازه کریستال و سطح ویژه بالا، متغیرهای آزمایشگاهی مانند دانسیته جریان و دمای حمام آبکاری پالسی مورد بررسی قرار گرفته است. نمونه ها پس از پوشش دهی با استفاده از sem، زبری سنجی و ولتامتری چرخه ای مورد بررسی قرار گرفتند. نتایج بررسی ها نشان داد که شرایط بهینه دما و دانسیته جریان در این تحقیق برابر است با °c 65 و macm-233. مورفولوژی پوشش دی اکسید سرب تولیدی در این شرایط حاوی نانو پولک های با ضخامتی در محدوده 45 تا nm 85 و طولی در محدوده 75/0تا mµ10 است. تصاویر stm پوشش دی اکسید سرب تولید شده در این شرایط نیز وجود نانوذرات دی اکسید سرب با قطر متوسطی در محدوده 7 تاnm  21 را روی پولک ها تأیید می کند.